CTP優(yōu)特技術(shù)及熱敏成像與光敏成像在曝光、功率、質(zhì)量、版材上的差異

一、成像曝光

1熱敏CTP成像曝光：屬物理反應(yīng)取決于光子的熱效應(yīng)，也取決于光子的數(shù)量與密度。

2光敏CTP成像曝光：屬化學(xué)反應(yīng)取決于光子能量發(fā)生聚合、分解、交聯(lián)的量子反應(yīng)。

二、成像功率

1熱敏CTP成像功率：寬容可見(jiàn)光和近紫外光譜，普通情況下出現(xiàn)曝光不足或曝光過(guò)度的可能性很少。

2光敏CTP成像功率：只在FD-YAG；功率在(10～1W/C㎡)量級(jí)，在UV-LD；功率在(10～2W/C㎡)量級(jí)。

三、成像質(zhì)量

1熱敏CTP成像質(zhì)量:邊緣銳利清晰，容易達(dá)到水墨平衡，網(wǎng)點(diǎn)好控制在1%～99%，成像還原200線(xiàn)/英寸

2光敏CTP成像質(zhì)量：會(huì)因環(huán)境問(wèn)明而經(jīng)常影響成像質(zhì)量，極易出現(xiàn)曝光不徹底、網(wǎng)點(diǎn)暈光等不良現(xiàn)……

四、成像版材

1熱敏CTP成像版材：廣而豐富，熱交聯(lián)型、熱熔型、熱燒蝕型、相變化型等多種類(lèi)型都適合。

2光敏CTP成像版材：受成像機(jī)理限制只能用銀鹽材料和光聚合型材料的兩種類(lèi)型的版材。